工程名稱：國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利與認(rèn)證中心

工程地點(diǎn)：*

工程狀態(tài)：待建

竣工年份：2020

項(xiàng)目特色：涉外辦公樓

建筑功能：商業(yè)地產(chǎn)

建筑高度：100以內(nèi) m

建筑面積：3萬-5萬 m²

幕墻面積：1萬-3萬 m²

幕墻類型：單元式幕墻

支持體系：混凝土結(jié)構(gòu)

面板固定體系：明框幕墻

施工方式：單元式幕墻施工

裝配方式：壓塊法