工程名稱：國家知識產權局專利與認證中心

工程地點：*

工程狀態：待建

竣工年份：2020

項目特色：涉外辦公樓

建筑功能：商業地產

建筑高度：100以內 m

建筑面積：3萬-5萬 m²

幕墻面積：1萬-3萬 m²

幕墻類型：單元式幕墻

支持體系：混凝土結構

面板固定體系：明框幕墻

施工方式：單元式幕墻施工

裝配方式：壓塊法